黑龙江生产中功率电晕处理机厂家

电源控制的一个相对较新的发展是功率密度控制系统。该系统通过在电晕放电中保持恒定的功率密度水平来提供的处理水平。操作员需为正在运行的特定作业或材料选择处理宽度和功率密度要求，然后传感器自动检测线速度，系统将自身调整到为材料提供适当电晕处理所需的适当功率水平。配置电晕处理过程可以容纳宽度和类型的材料。此外，它还可用于处理成品部件，如塑料瓶和瓶盖，射器针筒，塑料手术器械等。有几种基本的电晕处理系统配置用于处理网状材料。电晕处理机它们主要由电介质材料在电站中的位置来定义：传统的裸辊，双电介质和可转换的。对给定应用程序配置主要取决于正在处理的材料。常规电晕处理系统使网通过覆盖有绝缘材料的辊，例如硅橡胶套或陶瓷涂层。在材料上方悬浮约0.06至0.10英寸的电极是电极，其通常由裸铝制成并跨越需要处理的材料的宽度。与高压变压器协同工作，电源产生的电压范围为6000至10,000 V，电压施加在电极上。高电压分解和材料表面之间的间隙中的空气，在电极的整个宽度上产生电晕放电。这种传统设置是的配置，但它只能用于处理不导电且金属。

转换为油墨的趋势版印刷机熟悉许多新的科学，程序和工艺，以实现终产品。一旦电影供应商负责，印刷商发现，与使用水基一起，他们须在部进行表面处理工艺，以产生可接受的印刷质量。因此，打印机须熟悉表面处理过程，以及对表面科学的基本理解和镀铝膜电晕处理机测试处理水平的程序。人们早已认识到，获得良好生产中功率电晕处理机厂家粘合性和印刷质量的一步是确油墨均匀地润湿基材。液体和基板之间的界面面积越大，实现分结合的可能性越大。为了实现表面的适当润湿，种表面力起作用。所涉及的主要力是油墨的表面张力和薄膜的表面能。表被描述为直接由液体分子之间的分子间力引起的现象。换句话说，一滴液体表面的分子经受净力将它们吸引到部，这在液体表面产生张力，乎就像液体被紧密的皮肤覆盖一样。液体的表面以/厘米测量。影响墨水适当润湿能力的二个力是薄膜或基材黑龙江中功率电晕处理机厂家的表面能。表面能是用于描述固体物质表面的反应性的术语。出于实际目的，衬底的表面能也表示为达因/厘米。为了使液体在基材表面上分，材料须具有够高的能，相对于所施加的液体力。如果液体的张力高于基板的表面能，则液体分子将倾向于粘附在一起，形成珠子或液滴。作为一般规则，基材的达因水平比施加的液体高至少10个点。

电晕处理系统的组件包括电源，高压变压器和要处理的材料通过的处理站。该站本身通常包括一个电缘体或电介质以及一个返回路径（接地），并且可以多种方式配置以容纳不同的材料。电源具有很简单的功能：将输入电源的频率和电压提到以在站中产生电晕的水平。需要控制电源，因为传递适当的能量水平对于所产生的电晕放电的特性以及在材料表面获得的表面能水平很重要。一般而言，电源的频率（kHz）额定值越高，将给定功率传输到电晕放电所需的电压越低。高频/低压组合是理想的选择，因为低压电晕对站点中的缘体和电介质以及被处理材料的损害较小。但是，并非高频电源都在较低的电压下工作，电源控制的一个相对较新的发展是功率密度控制系统。该系统通过在电晕放电中保持恒定的功率密度水平来提供一样的水平。操作员只要为正在运行的特定作业或物料选择处理宽度和功率密度要求，然后传感器自动检测线速度，系统将自身调整为向物料提供适当电晕处理所需的适当功率水平。

在大多数情况下，这不会产生问题，因为材料要么是在袋子外面进行表面印刷而未经处理的提供密封性，要么是层压使得处理过的一面提供层压粘合并从中埋入。密封面。只要不试图密封处理过的表面，电晕处理就不会对密封强度起作用。在正常情况下，电晕处理将在膜的一个表面上。如果需要，当然可以在两面处理胶片; 然而，出于本讨论的目的，假设我们考虑单面处理的薄膜。然而，可能存在密封剂表面可能被意外处理的情况。这被称为背向处理或背面处理，可能由许多因素引起，这些因素都与通过处理器后进入网后的空气有关。如上所述，电晕处理的过程依赖于处理器薄膜之间的气隙中的氧转化，电晕处理机产生臭氧，氧化薄膜表面。如果薄膜后面有空气（在薄膜和备用或磨辊之间），则该空气也会被氧化，在纸幅后面产生臭氧，然后氧化薄膜的背面。背面的氧化可以在小区域中或在整个幅材上，这取决于幅材从支承辊上抬起多少。可以采取机械步骤来减少这种气隙的可能性，从而减少背面处理的可能性。如果背面处理区域落在密封件上（例如在袋侧密封件中），则处理将再次干扰密封性并且将形成弱密封。这可能导致可能发生泄漏的小区域，因为密封膜容易从其自身拉出。，问题可能会恶化。因此，在大多数情况下，背面是不可接受的。

对于电源波动较大的制造商，应采用交流稳压器以让电压稳定。电晕处理器的输出功率：处理能力随电晕处理的速度，胶片的类型，经验和电晕的宽度而变化。目前，电晕处理的输出功率范围常用2-70kW，如果处理速度增加1倍，处理能力也应增加1倍; 同样，如果薄膜的宽度增加1倍，处理能力也应增加1倍; 功率冷膜处理至少比薄膜大1倍。以上也可以作为选择电晕处理器尺寸的依据。处理装置可视为具有损耗介质的电容器。当输入功率的频率升高时，电流增加，功率增加，反之亦然。电晕处理器通常通过调节电源频率来改变电源频率。电晕放电处理器的频率调节范围：10-25kHz。电极间隙：停留时间相对较长，电晕处理机增加了处理成效; 但另一方面，能量分散到比较大的空间，强度下降，两种成效只在适当时，电极间隙，只有强度。电极间隙通常控制在1-2mm。另外，将单个头电极改变为长头（例如6头）电极，并且在相同的处理条件下，也可以处理程度。由于不同种类的薄膜，加工形式和加工后的时间，加工要求也不同。